Grafite ad alta purezza-pressata isostaticamente

Grafite ad alta purezza-pressata isostaticamente
Dettagli:
La grafite di elevata purezza-pressata isostatica vanta un contenuto di carbonio pari o superiore al 99,99%, struttura densa, eccellente conduttività termica/elettrica e resistenza al calore, ideale per semiconduttori e forni ad alta-temperatura.
MOQ: 1 sacco/50 kg
Materiale: grafite naturale
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Descrizione
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Nucleo del prodotto

La grafite ad elevata purezza-pressata isostaticamente viene fabbricata tramite pressatura isostatica a freddo (CIP) per ottenere una densificazione uniforme 3D a pressione ultra-alta (140–200 MPa). Realizzato con coke di petrolio purificato a oltre 2500 gradi, presenta una densità quasi-teorica e un'eccellente isotropia, garantendo prestazioni stabili in diverse applicazioni.

Parametri tecnici

Parametro

Valore chiave

Densità

1,80–1,92 g/cm³

Contenuto di cenere

Inferiore o uguale a 100 ppm

Rapporto di anisotropia

1.0–1.05

Coefficiente di dilatazione termica (CTE)

4,2–5,0 × 10⁻⁶/K (RT–400 gradi)

Purezza

C Maggiore o uguale al 99,9%

Conducibilità termica

110–130 W/(m·K)

Resistenza alla flessione

55–85MPa

I prodotti supportano la personalizzazione personalizzata.

Caratteristiche principali

  • Purezza ultra-elevata: impurità ultra-basse di ceneri/metalli (Fe, Ca, Na), verificate ICP-MS, idoneità ai campi sensibili alle impurità-.
  • Densità eccellente: elevata densità apparente, bassa porosità, aumento della conduttività termica e della capacità meccanica.
  • Isotropia: differenze minime nell'espansione termica/resistenza alla flessione attraverso le direzioni.
  • Resistenza al calore estrema: stabile a temperature elevate in atmosfere inerti (rivestimento necessario in ambienti ossidanti al di sopra di temperature specifiche).
  • Resistenza agli shock termici: resiste a rapidi cambiamenti di temperatura senza rompersi.
  • Lavorabilità di precisione: la grafite ad alta purezza-pressata isostaticamente presenta tolleranze strette e può essere lavorata in parti complesse (dischi di turbine, crogioli).

Applicazioni chiave

  • Semiconduttore: componenti termici/supporti wafer del forno in silicio monocristallino (resistenza alle alte- temperature, impurità ultra-basse).
  • Fotovoltaico: crogioli/riscaldatori per lingotti di polisilicio (resistono all'erosione della fusione del silicio).
  • Energia nucleare: riflettori di neutroni del reattore raffreddato a gas-ad alta temperatura-(conforme alle specifiche di grado nucleare-).
  • Aerospaziale: inserti per la gola degli ugelli dei razzi/alette dei missili (resistono all'ablazione ad alte- temperature estreme).
  • Metallurgia-di fascia alta: crogioli di fusione di leghe di titanio (riutilizzabili, senza perdite).
  • Attrezzature industriali: elettrodi per elettroerosione/parti chiave del-forno ad alta temperatura.

Certificazione e personalizzazione

 

La grafite ad alta purezza-pressata isostaticamente è conforme agli standard SEMI F76 (semiconduttori), ISO 8005 (nucleare), EN 10298/ASME BPVC (sicurezza) e RoHS 3.0 (ambientale). I servizi personalizzati includono: silicidazione (per migliorare la resistenza all'ossidazione), impregnazione secondaria (per aumentare la densità) e ottimizzazione della struttura ultra-fine (per migliorare la tenacità).

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